PEMODELAN PENYEMPITAN CELAH PITA ENERGI SEBAGAI FUNGSI KONSENTRASI DOPING PADA HBT SIGE

Smaller bandgap material in the base of SiGe HBT is obtained by using high doping concentration and Germanium addition into the base of silicon bipolar transistor. In this work, a simple natural logarithm model bandgap narrowing due heavy doping in the base of SiGe HBT is proposed. The model is developed using least square method for the data collected by Hueting. This simple formulation is very useful to derive an analytical model of SiGe HBT. To test the validity of our model, we compare our model with other models used by Hueting and Sze as well as experimental data that have already been published. The result shows that our model of bandgap narrowing is in good agreement with the experimental data. Keywords: Modeling, bandgap energy, doping concentration, HBT SiGe. ABSTRAK Basis HBT SiGe dibuat dari campuran bahan Silikon dan Germanium yang mempunyai celah pita energi lebih sempit dari celah pita energi bahan Silikon. Penyempitan celah pita energi ini selain terjadi karena penambahan bahan Germanium, juga terjadi karena penggunaan konsentrasi doping yang tinggi pada basis. Pada makalah ini dibahas pengembangan model penyempitan celah pita energi yang disebabkan oleh konsentrasi doping pada basis HBT SiGe dengan menggunakan metode kuadrat terkecil. Model dibuat dalam bentuk logaritma natural sederhana sehingga memudahkan dalam perhitungan kinerja HBT SiGe yang berbentuk pangkat eksponensial penyempitan celah pita energi. Model yang dibuat dibandingkan dengan model-model lain yang digunakan oleh Hueting dan Sze. Hasilnya menunjukkan bahwa model penyempitan bandgap yang dibuat dapat merepresentasikan data eksperimen lebih baik dibandingkan dengan model lainnya. Kata kunci: Pemodelan, Celah Pita Energi, Konsentrasi Doping, HBT SiGe