INFLUÊNCIA DA VAZÃO DE OXIGÊNIO E NITROGÊNIO NA ESPESSURA DA CAMADA DE ÓXIDO DE SILÍCIO PARA PASSIVAÇÃO DE CÉLULAS SOLARES BIFACIAIS

A passivação das superfícies em células solares bifaciais visa o aumento da eficiência e da bifacialidade. O objetivo deste trabalho é analisar a influência da vazão de oxigênio e nitrogênio na espessura da camada de óxido de silício crescida no emissor e no campo retrodifusor para passivar células solares bifaciais PERT base p. Três processos de oxidação térmica seca foram desenvolvidos para crescer a camada de óxido de silício para passivação: com vazão padrão de oxigênio, com redução de 30% da vazão de oxigênio e com redução de 30% da vazão de oxigênio e adição de nitrogênio. A caracterização das camadas foi realizada por espectroscopia por energia dispersiva e pela determinação da espessura e do índice de refração com a técnica de elipsometria. A concentração de oxigênio e a espessura da camada de óxido de silício no emissor foi maior que no campo retrodifusor. Com o processo com redução de oxigênio, observou-se uma tendência de aumento da concentração de oxigênio na camada de passivação no emissor e no campo retrodifusor, em comparação com o processo com vazão padrão de oxigênio. A espessura do óxido de silício no campo retrodifusor foi maior, mas no emissor a espessura da camada foi similar. Também se constatou a tendência de aumento do índice de refração do óxido de silício no emissor com a redução de oxigênio. Para o processo com nitrogênio, ocorreu menor taxa de crescimento da camada de óxido de silício no emissor e a diferença entre a espessura da camada de passivação crescida no emissor e no campo retrodifusor foi a menor. Concluiu-se que é possível reduzir a vazão de oxigênio em 30% para a passivação de células solares PERT base p.