Neue Kandidaten für die nichtlineare Optik im Tief‐UV‐Bereich

AbstractFortschritte bei der Erzeugung kohärenter Laser unter 200 nm sowie Geräten und Techniken zu deren Betrieb haben die Entwicklung von NLO‐Materialien mit der Fähigkeit zur Phasenanpassung im tiefen UV‐Spektralbereich (Tief‐UV) stark beschleunigt. Allerdings erfüllen nur wenige Kristalle die technischen Anforderungen, und bis heute konzentriert man sich im Wesentlichen darauf, die nächsten konkurrenzfähigen Kandidaten zu finden. Demzufolge wurden mehrere Kristalle entwickelt, die großes Potenzial zur Erzeugung von harmonischem, kohärentem Licht im tiefen UV bieten und von neu entwickelten Systemen mit neuartigen NLO‐aktiven Einheiten und Chromophoren profitieren. Wir bieten hier eine Übersicht der Entwicklung dieser neuen Kandidaten im Bereich der Tief‐UV‐NLO‐Materialien, diskutieren Fortschritte bei der Suche nach überlegenen Systemen und beim Verständnis der Struktur‐Eigenschafts‐Beziehungen. Unser Ziel ist eine klare Darstellung der Entwicklung aktueller NLO‐Kandidaten für tiefes UV. Außerdem hoffen wir, das Auffinden neuer, hocheffizienter Kandidaten durch diesen Aufsatz zu beschleunigen.